多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐 參考價：面議
OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐，此款設備主要包括混氣裝置，加熱爐，基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成。可與準分子激光器...
雙溫區(qū)管式爐 參考價：面議
雙溫區(qū)管式爐系列是通過CE認證的，其Z高溫度可達到1200℃，并可通過調節(jié)兩個溫區(qū)的控溫程序使爐管內溫場形成一溫度梯度。兩個溫區(qū)分別由兩個獨立的溫控系統(tǒng)來控制，...
小型真空管式爐 參考價：面議
小型真空管式爐是一款通過CE認證的小型高溫管式爐，其爐管采用的是高純氧化鋁剛玉管，加熱元件為硅碳棒。儀器本身帶有兩個真密封法蘭（法蘭上已安裝機械壓力表和不銹鋼截...
1100℃小型高溫高壓管式爐--OTF-1200X-HP-30A 參考價：面議
OTF-1200X-HP-30A是一款小型的高溫高壓管式爐，其爐管法蘭上安裝有高壓電磁閥和壓力傳感器，所以當管內氣壓高于設定值時，電磁閥會自動打開排氣，使管內氣...
雙溫區(qū)立式高溫高壓爐--OTF-1200X-VTHP 參考價：面議
OTF-1200X-VTHPΦ60是一款雙溫區(qū)立式高溫高壓爐，爐管采用鎳基合金鋼管制作，具有較高的蠕變強度和抗氧化性。爐管可承受的Z高溫度為1100℃（...
1200℃雙溫立式爐-OTF-1200X-4-VT-II 參考價：面議
OTF-1200X-4-VT-II是通過CE認證的雙溫區(qū)立式管式爐，其爐管直徑可制作為100mm,適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行吊燒和淬火。爐體下端安裝...
顆粒懸浮立式管式爐--OTF-1200X-S-FB 參考價：面議
OTF-1200X-S-FB是一款流化床立式管式爐，專門針對粉末表面沉積的CVD實驗，爐管為高純石英管，爐管內部嵌有一多孔石英板，石英板的孔徑為5-15um.粉...
4英寸真空立式淬火爐--OTF-1200X-4-VTQ 參考價：面議
OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材...
小型超高溫2000°C管式爐-GSL-2000X-25 參考價：面議
GSL-2000X-25是一款小型的高溫管式爐，其腔體內部加熱區(qū)域為25mmI.Dx150mm,溫度可以達到1900℃,加熱元件采用特殊的鎢絲加熱，.此款設備特...
1600℃雙溫區(qū)回轉爐--GSL-1600X-R60-II 參考價：面議
GSL-1600X-R60-II是一款高溫雙溫區(qū)回轉爐。此款設備專門設計對粉體在高溫狀態(tài)下，進行均勻的燒結。
1200℃單溫區(qū)可傾斜旋轉爐--OTF-1200X-4-R 參考價：面議
OTF-1200X-4-R 是一款單溫區(qū)旋轉管式爐，為煅燒無機化合物獲得較好的*性而設計。特別對鋰離子電池負極材料的制備效果*，可提高導電性?；蛘邞迷诜垠w材料...
1200°C迷你型快速加熱冷卻爐 參考價：面議
OTF-1200X-50-SL是一款CE認證的可滑動管式爐，配置外徑50x 1000mm石英管，工作溫度Z高達1200°C。爐底安裝一對滑軌，可滑動。加熱和冷卻...
小型1000℃RTP爐 參考價：面議
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4" 石英管和真空法蘭， 它是專為半導體或太陽能電池基片（Z大達3“）的退火而設計，采用10K...
5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐（CSS）OTF-1200X-RTP-II-5 參考價：面議
OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Su...
1100℃高壓爐-OTF-1200X-HP-55 參考價：面議
OTF-1200X-HP-55是一款通過CE認證的開啟式管式爐，其爐管采用無縫鎳基合金管,此款設備專為高溫高壓實驗設計，Z高壓力高達20MPa，Z高溫度可達11...
12升1700℃高溫氫氣爐 參考價：面議
12升1700℃高溫氫氣爐是一款通過CE認證的高溫氫氣爐，此款儀器專門針對于材料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進行燒結或是退火，其Z高溫度可高達1700℃。KSL-1...
帶有光學窗口的高溫高壓爐--OTF-1200X-HP-III-W 參考價：面議
OTF-1200X-HP-III-W是一款帶有石英窗口的高溫高壓爐，爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，可承受的Z高溫度為1100℃。兩端法蘭上都安裝有石英窗口，可允許...
真空熱壓爐--OTF-1200X-VHP4 參考價：面議
OTF-1200X-VHP4開啟式立式爐，標配dia4"石英管真空密封，20T電動壓力機。是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想工具，在5噸壓力下可鍵合多層基片...
氣體可流動高溫高壓管式爐--OTF-1200X80-HPV-III-GF 參考價：面議
OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款高溫高壓管式爐，爐體擁有三個溫區(qū)。儀器中配有氣體控制柜，可使爐管內的氣壓在升降溫過程中保持恒定，特別是對于氧化...
雙管滑動快速加熱冷卻爐-OTF-1200X-4-C4LVS 參考價：面議
OTF-1200X-4-C4LVS 雙管爐是 一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通...
單管滑動快速加熱冷卻爐-OTF-1200X-80SL 參考價：面議
單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL是一款CE認證的可滑動管式爐，配置dia3"x55" 石英管，工作溫度Z高達1200°C。爐底安裝一...
小型1000℃RTP爐-OTF-1200X-4-RTP 參考價：面議
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4“ 石英管和真空法蘭， 它是專為半導體或太陽能電池基片（Z大達3“）的退火而設計，采用10K...
1200℃雙溫區(qū)可傾斜旋轉爐--OTF-1200X-4-R-Ⅱ 參考價：面議
OTF-1200X-4-R--Ⅱ是一款通過CE認證的雙溫區(qū)可旋轉管式爐，此款設備專門針對于材料的混合燒結，特別適用于鋰離子電池材料的混合燒結，如 LiFePO4...
6單溫區(qū)CVD真空管式爐 參考價：面議
GSL-1100X-6-S 是一款爐管內徑為6“ 的真空管式爐 , 它可以在Z大5“的基片上生長多種薄膜（在不同氣氛下）. 該爐的Z高工作溫度為 1100...
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